吸附垫的应用
吸附垫，主要用于半导体硅晶体材料，宝石晶体片，硅片外延片等产品的单面抛光，属于电子材料 的抛光装置。这是一种圆形的、由多层树脂材料组成的复合结构、硅片用水(或研磨液)粘贴在镶嵌层圆孔内的吸附膜上。采用本实用新型，可对硅片，蓝宝石进行无蜡抛光，其表面总厚度变化小于6μm，省时、省力，本实用新型制造简单、成本低。
无蜡抛光模板在化学机械抛光製程中用于对晶片的固定;无蜡工艺在加工成本、生产效率都较有蜡工艺有更大的优势。长期以来，新光速致力于研发新的工艺技术，生产新型行业使用的材料，降低客户的生产成本，无蜡垫作为新光速主推产品，为客户节约了大量 的采购成本，目前新光速提供的无蜡抛光垫是国内少有的可以与国外产品竞争的产品，蓝宝石衬底抛光是一个成熟的产业，受制于昂贵的无蜡垫等各类耗材成本，而价格高企，而目前许多数客户都已开始使用新光速提供的无蜡垫，节约了采购成本和产品成本，不再受制于国外厂商，新光速所生产销售的无蜡模板可以根据客户抛盘大小定製;新型无蜡抛光模板采用高硬度模板框架,在蓝宝石晶片抛光应用的竞争力超越其他厂家的模板
下一篇：抛光液作用和浓度对工件的影响上一篇：抛光垫性能对抛光液的影响
此文关键字：吸附,垫,的,应用,吸附,垫,主要,用于,半导体,
相关资讯
同类文章排行
- 研磨中划痕减免方法
- 手机壳PVD+AF
- 平面研磨抛光加工中划痕产生的原因及如何预防
- 不锈钢研磨材料及研磨工艺
- 钟表抛光+PVD
- 抛光垫性能对抛光液的影响
- 油性研磨液和水性研磨液在平面研磨机上的应用
- 手面听筒网抛光+PVD
- 研磨中磨料的物理性能
- 精密平面研磨加工技术特点
